アステラテックの成膜技術

Ai sputtering

低温プロセスで、膜密度の向上及び平坦性を実現する技術です。成膜時に基板に入射するイオンの量を弱電離プラズマによってコントロールすることにより、一度基板に付着した原子に運動エネルギーを与え、より安定したサイトへの移動を促します。